Производство полупроводников ведётся в чистых комнатах класса ISO 3–5, где любая органическая молекула, попавшая на кремниевую пластину, необратимо нарушает топологию фотолитографии. Стандартные смазки категорически недопустимы: их углеводородные пары адсорбируются на поверхности пластины и маскируют защитный слой фоторезиста. Для линейных направляющих и ШВП координатных столов фотолитографов и степперов применяется Klüber Barrierta L 55/2 на базе PFPE/PTFE: давление паров ниже 10⁻⁸ мбар при +20°C, химически инертна к агрессивным технологическим газам (Cl₂, HF, NF₃) и не влияет на классификацию чистоты воздуха ISO 3. Для вакуумных манипуляторов загрузки-выгрузки пластин применяется Klübervac 1-V-100 на ПАО — не загрязняет молекулярными фракциями кристаллическую поверхность при давлении в камере 10⁻⁵ мбар. В узлах трения сканирующих зеркал лазерных систем литографии используется Klüber Isoflex PDP 65 на перфторполиэфирной основе — химически инертен к уплотняющим фторполимерам, не образует нелетучих остатков при нагреве лазерным пучком и обеспечивает позиционирование зеркала с погрешностью менее 10 нм.
Поставки Klüber Lubrication выполняются через параллельный импорт. Мы подтверждаем подлинность продукции документами партии и входным контролем.
